Publication detail
Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace
POTOČEK, M. BÁBOR, P. ŠIKOLA, T.
Original Title
Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace
English Title
Application of thermal desorption spectroscopy for surface contamination investigation
Type
journal article - other
Language
Czech
Original Abstract
V článku je popsán teoretický základ termální desorpční spektroskopie a její realizace v laboratoři povrchů a tenkých vrstev. Dále je uvedeno použití této metody při studiu kontaminace Si desek.
English abstract
Theoretical basics of thermal desorption spectroscopy and its realization in the Surfaces and Thin Films Laboratory is presented. As an example of application of this method a study of contamination of Si wafer is reported.
Keywords
Termální desorpční spektroskopie, TDS; desorpce; adsorpce
Key words in English
Thermal desorption spectroscopy, TDS; desorption; adsorption
Authors
POTOČEK, M.; BÁBOR, P.; ŠIKOLA, T.
RIV year
2009
Released
1. 9. 2009
ISBN
0447-6441
Periodical
Jemná mechanika a optika
Year of study
54
Number
7-8
State
Czech Republic
Pages from
217
Pages to
218
Pages count
2
BibTex
@article{BUT46796,
author="Michal {Potoček} and Petr {Bábor} and Tomáš {Šikola}",
title="Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace",
journal="Jemná mechanika a optika",
year="2009",
volume="54",
number="7-8",
pages="217--218",
issn="0447-6441"
}