Detail publikace
Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace
POTOČEK, M. BÁBOR, P. ŠIKOLA, T.
Originální název
Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace
Anglický název
Application of thermal desorption spectroscopy for surface contamination investigation
Typ
článek v časopise - ostatní, Jost
Jazyk
čeština
Originální abstrakt
V článku je popsán teoretický základ termální desorpční spektroskopie a její realizace v laboratoři povrchů a tenkých vrstev. Dále je uvedeno použití této metody při studiu kontaminace Si desek.
Anglický abstrakt
Theoretical basics of thermal desorption spectroscopy and its realization in the Surfaces and Thin Films Laboratory is presented. As an example of application of this method a study of contamination of Si wafer is reported.
Klíčová slova
Termální desorpční spektroskopie, TDS; desorpce; adsorpce
Klíčová slova v angličtině
Thermal desorption spectroscopy, TDS; desorption; adsorption
Autoři
POTOČEK, M.; BÁBOR, P.; ŠIKOLA, T.
Rok RIV
2009
Vydáno
1. 9. 2009
ISSN
0447-6441
Periodikum
Jemná mechanika a optika
Ročník
54
Číslo
7-8
Stát
Česká republika
Strany od
217
Strany do
218
Strany počet
2
BibTex
@article{BUT46796,
author="Michal {Potoček} and Petr {Bábor} and Tomáš {Šikola}",
title="Využití termální desorpční spektroskopie při studiu povrchové kontaminace",
journal="Jemná mechanika a optika",
year="2009",
volume="54",
number="7-8",
pages="217--218",
issn="0447-6441"
}