Publication detail
Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films
Rašková, Z., Brandejs, K., Cvrčková, O., Krčma, F.
Original Title
Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films
Type
conference paper
Language
English
Original Abstract
Práce podává přehled identifika hlavních spektrálních čar a pásů měřených během depozice s užitím HMDSO a TVS. Depoziční proces probíhal v pulsním režimu s proměnnou délkou pulsu. Kromě čistých monoměrů byla užívána i příměs kyslíku. Byly pozorovány změny v závoslosti na délce pulsu a složení reakční směsi. Složení plynu vystupujícího z plazmatu bylo sledováno pomocí GC-MS pro níž byly odebírány vzorky metou cold trap. Podařilo se zjistit dosud neznámou sloučeninu a byly navrženy možné reakční mechanismy vedoucí k jejímu vzniku.
Keywords
optical emission spectroscopy, CG-MS, tetravinylsilane deposition, effective power
Authors
Rašková, Z., Brandejs, K., Cvrčková, O., Krčma, F.
RIV year
2004
Released
15. 11. 2004
Publisher
Matfyzpress
Location
Praha
ISBN
80-86732-32-0
Book
Proceedings of Week of Doctoral Students
Pages from
367
Pages to
372
Pages count
6
BibTex
@inproceedings{BUT17256,
author="Zuzana {Rašková} and Kamil {Brandejs} and Olga {Cvrčková} and František {Krčma}",
title="Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films",
booktitle="Proceedings of Week of Doctoral Students",
year="2004",
pages="6",
publisher="Matfyzpress",
address="Praha",
isbn="80-86732-32-0"
}