Detail publikace

Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films

Rašková, Z., Brandejs, K., Cvrčková, O., Krčma, F.

Originální název

Typ

článek ve sborníku ve WoS nebo Scopus

Jazyk

angličtina

Originální abstrakt

Práce podává přehled identifika hlavních spektrálních čar a pásů měřených během depozice s užitím HMDSO a TVS. Depoziční proces probíhal v pulsním režimu s proměnnou délkou pulsu. Kromě čistých monoměrů byla užívána i příměs kyslíku. Byly pozorovány změny v závoslosti na délce pulsu a složení reakční směsi. Složení plynu vystupujícího z plazmatu bylo sledováno pomocí GC-MS pro níž byly odebírány vzorky metou cold trap. Podařilo se zjistit dosud neznámou sloučeninu a byly navrženy možné reakční mechanismy vedoucí k jejímu vzniku.

Klíčová slova

optical emission spectroscopy, CG-MS, tetravinylsilane deposition, effective power

Autoři

Rašková, Z., Brandejs, K., Cvrčková, O., Krčma, F.

Rok RIV

2004

Vydáno

15. 11. 2004

Nakladatel

Matfyzpress

Místo

Praha

ISBN

80-86732-32-0

Kniha

Proceedings of Week of Doctoral Students

Strany od

367

Strany do

372

Strany počet

BibTex

@inproceedings{BUT17256,
  author="Zuzana {Rašková} and Kamil {Brandejs} and Olga {Cvrčková} and František {Krčma}",
  title="Investigation of RF low-temperature discharge by OES and GC-MS during deposition of silane based thin films",
  booktitle="Proceedings of Week of Doctoral Students",
  year="2004",
  pages="6",
  publisher="Matfyzpress",
  address="Praha",
  isbn="80-86732-32-0"
}