Detail předmětu

Preparation and Properties of Thin Layers of Materials

FCH-DA_PTVAk. rok: 2025/2026

Terminology; fundamentals of vacuum science; introduction to plasma physics and chemistry; film deposition techniques: vacuum evaporation, sputtering, plasma polymerization, mass spektrometry, laser-enhanced CVD, CVD processes; thin film characterization: film growth, film thickness and deposition rate, scanning probe microscopy (STM, AFM, EFM, MFM, SNOM), mechanical properties (measurement techniques, internal stress, adhesion), spectroscopic ellipsometry and analytical methods (XPS, RBS, ERDA, FTIR).

Jazyk výuky

angličtina

Garant předmětu

prof. RNDr. Vladimír Čech, Ph.D.

Zajišťuje ústav

Fakulta chemická (FCH)

Učební cíle

The aim of the course is to familiarize students with advanced technologies for the preparation and analysis of thin films.

Students will acquire the knowledge of the issue of thin films necessary for the solution of their dissertation. 

Základní literatura

D. Hoffman, B. Singh, J.H. Thomas, Handbook of Vacuum Science and Technology, Academic Press 1998. (EN)
H. Bubert, H. Jenett, Surface and Thin Film Analysis, Wiley-VCH, 2002 (EN)
M. Ohring, Materials Science of Thin Films, Academic Press 2002. (EN)
V. L. Mironov, Fundamentals of Scanning Probe Microscopy, NT-MDT 2004. (EN)

Zařazení předmětu ve studijních plánech

  • Program DPAP_CHM_4_N doktorský 1 ročník, zimní semestr, povinně volitelný
  • Program DKAP_CHM_4_N doktorský 1 ročník, zimní semestr, povinně volitelný