Detail předmětu
Tenké vrstvy
FCH-MC_TVRAk. rok: 2021/2022
Struktura přednášky zahrnuje definici základních pojmů, základy techniky vakua, úvod do plazmochemie, technologie přípravy vrstev - napařování, rozprašování, plazmová polymerace, využití laserů pro depozice tenkých vrstev, depozice z plynné fáze, charakterizace tenkých vrstev - růst vrstev, tloušťka tenké vrstvy, techniky sondové mikroskopie (STM, AFM, EFM, MFM, SNOM), mechanické vlastnosti (měřící techniky, pnutí, adheze).
Jazyk výuky
Počet kreditů
Garant předmětu
Zajišťuje ústav
Výsledky učení předmětu
Prerekvizity
Plánované vzdělávací činnosti a výukové metody
Způsob a kritéria hodnocení
Osnovy výuky
2. Základy techniky vakua
3. Úvod do fyziky a chemie plazmatu
4. Fyzikální metody pro přípravu tenkých vrstev
5. Chemické metody pro přípravu tenkých vrstev
6. Plazmochemická depozice z plynné fáze
7. Růst tenké vrstvy
8. Měření tloušťky tenkých vrstev
9. Rastrovací sondová mikroskopie
10. Mechanické vlastnosti tenkých vrstev
11. Případová studie
12. Případová studie
13. Písemný test, návštěva laboratoří
Učební cíle
Vymezení kontrolované výuky a způsob jejího provádění a formy nahrazování zameškané výuky
Základní literatura
L. Eckertová, Fyzika tenkých vrstev, SNTL 1973 (CS)
M. Ohring, Materials Science of Thin Films, Academic Press 2002 (CS)
V. L. Mironov, Fundamentals of Scanning Probe Microscopy, NT-MDT 2004 (CS)
Zařazení předmětu ve studijních plánech
Typ (způsob) výuky
Konzultace v kombinovaném studiu
Vyučující / Lektor