Detail předmětu
Thin Films
FCH-MAO_TVRAk. rok: 2012/2013
Struktura přednášky zahrnuje definici základních pojmů, základy techniky vakua, úvod do plazmochemie, technologie přípravy vrstev - napařování, rozprašování, plazmová polymerace, využití laserů pro depozice tenkých vrstev, depozice z plynné fáze, charakterizace tenkých vrstev - růst vrstev, tloušťka tenké vrstvy, techniky sondové mikroskopie (STM, AFM, EFM, MFM, SNOM), mechanické vlastnosti (měřící techniky, pnutí, adheze).
Jazyk výuky
Počet kreditů
Garant předmětu
Zajišťuje ústav
Výsledky učení předmětu
Prerekvizity
Způsob a kritéria hodnocení
Osnovy výuky
Základy techniky vakua
Úvod do fyziky a chemie plazmatu
Fyzikální metody pro přípravu tenkých vrstev
Chemické metody pro přípravu tenkých vrstev
Plazmochemická depozice z plynné fáze
Růst tenké vrstvy
Měření tloušťky tenkých vrstev
Rastrovací sondová mikroskopie
Mechanické vlastnosti tenkých vrstev
Návštěva laboratoří
Učební cíle
Vymezení kontrolované výuky a způsob jejího provádění a formy nahrazování zameškané výuky
Základní literatura
M. Ohring, The Materials Science of Thin Films, Academic Press 2001 (EN)
N. Inagaki, Plasma Surface Modification and Plasma Polymerization, Technomic 1996 (EN)
Zařazení předmětu ve studijních plánech