Fyzika a chemie plazmatu za sníženého tlaku: Vlastnosti a aplikace

Physics and chemistry of low pressure plasma: properties and applications

článek v časopise - ostatní, Jost

čeština

Úvodní přednáška začne stručným přehledem plazmatu jako čtvrtého skupenství hmoty, elementárních procesů v plazmatu jako je účinný průřez, distribuční funkce energie elektronů, Debyeova difúzní délka, teploty různých částic (především v nerovnovážných případech), atd. Produkce různých reaktivních částic jako jsou ionty, radikály a excitované částice bude prezentována s ohledem na využití v nerovnovážné objemové i povrchové chemii. Bude uveden přehled nízkotlakých plazmových systémů a elektrodových konfigurací využitelných v laboratorních procesech a technologiích. Na závěr budou prezentovány vybrané průmyslové aplikace jako depozice tenkých a tvrdých vrstev, povrchové úpravy, produkce nanočástic a nanostruktur, plazmová TV, apod.

The introduction lecture will start by a brief review of plasma as the fourth state of matter, plasma elementary processes like effective cross sections, electron energy distribution function, Debye diffusion length, temperatures of various species (especially in non-equilibrium cases), etc. The stress on various reactive species generation like ions and radicals and excited species will be presented with link to the non-equilibrium bulk and surface chemistry. The possible low pressure plasma discharge systems and electrode configurations applicable for laboratory processes and technologies will be reviewed. Finally, the selected industrial applications like thin films and hard coatings deposition, surface treatment, nanoparticles and nanostructures synthesis, plasma TV, etc. will be presented.

Nízkotlaké plazma, elementární procesy v plazmatu, plazmové technologie

Low pressure plasma, plasma elementary processes, plasma technologies

KRČMA, F.

30. 5. 2016

Česká vakuová Společnost

Praha

1213-2705

Zpravodaj České Vakuové Společnosti

24

1

Česká republika

5

10

6