Detail předmětu
Fyzika a chemie plazmatu
FCH-DCO_FNDAk. rok: 2024/2025
Vybrané kapitoly z fyziky a chemie rovnovážného i nerovnovážného plazmatu, jeho diagnostiky a pokročilých aplikací s ohledem na zaměření disertačních prací studentů.
Jazyk výuky
čeština
Garant předmětu
Zajišťuje ústav
Vstupní znalosti
Fyzikální chemie - temodynamika, kinetika
Fyzika - pohyb hmotného bodu, elektrické pole a proud, magnetcké pole
Matematika - diferenciální rovnice
Fyzika - pohyb hmotného bodu, elektrické pole a proud, magnetcké pole
Matematika - diferenciální rovnice
Pravidla hodnocení a ukončení předmětu
Student připraví prezentaci na zadané téma v rozsahu cca 30 minut, po níž následuje diskuse v širších souvislostech, opět v rozsahu cca 30 minut.
Studenti se povinně účastní zkoušek svých kolegů.
Studenti se povinně účastní zkoušek svých kolegů.
Učební cíle
V kurzu jsou popsány základní vlastnosti plazmatu a současná metodologie plazmové chemie tak, že studenti chemického inženýrství jsou schopni prakticky aplikovat a užívat unikátní vlastnosti plazmatu v takových oborech jako jsou materiálové inženýrství, mikroelektronika, biologie, a makromolekulární, organická, anorganická i analytická chemie. V přednášce je probráno široké spektrum praktických aplikací přičemž je zvláštní pozornost kladena na použití nerovnovážného (Te >> Tn] plazmatu.
Student získá detailní znalosti o vlastnostech plazmatu a soudobé metodologii plazmové chemie související s jeho disertační prací. V rámci závěrečné zkoušky pak musí prokázat širší přehled.
Student získá detailní znalosti o vlastnostech plazmatu a soudobé metodologii plazmové chemie související s jeho disertační prací. V rámci závěrečné zkoušky pak musí prokázat širší přehled.
Studijní opory
S ohledem na konzultační formu výuky nejsou studijní opory vytvářeny
Základní literatura
ANDERS, A. Handbook of Plasma Ion Implantation and deposition, 1st ed., New York: John Wiley & Sons, 2000, ISBN 0-471-24698-0 (CS)
ROTH J.R. Industrial Plasma Engineering I. , II., London: CRC Press - Taylor & Francis Group, 1995, ISBN (Vol. 1): 978-0750303187, ISBN (Vol. 2): 978-0750303170 (CS)
SHUL, R.J., PEARTON, S.J. Handbook of Advanced Plasma Processing, 1st ed., Berlin: Springer, 2000, ISBN 978-3-642-56989-0 (CS)
ROTH J.R. Industrial Plasma Engineering I. , II., London: CRC Press - Taylor & Francis Group, 1995, ISBN (Vol. 1): 978-0750303187, ISBN (Vol. 2): 978-0750303170 (CS)
SHUL, R.J., PEARTON, S.J. Handbook of Advanced Plasma Processing, 1st ed., Berlin: Springer, 2000, ISBN 978-3-642-56989-0 (CS)
Zařazení předmětu ve studijních plánech
- Program DPCP_FCH_4 doktorský
obor DPCPO_FCH_4 , 1 ročník, zimní semestr, povinně volitelný
- Program DPCP_FCH_N doktorský 1 ročník, zimní semestr, povinně volitelný
- Program DKCP_FCH_N doktorský 1 ročník, zimní semestr, povinně volitelný